发明名称 一种涂层形成装置
摘要 一种基片由可沿Y方向自由移动的基片固定部分(23)水平固定,在基片上方设有对着基片的喷嘴部分(5),喷嘴部分(5)可沿对应于基片上涂层液体供给区域的X方向移动。排出口设在喷嘴部分(5)的下端,在排出口内设有将排出口(54)与连接到喷嘴部分上端的涂层液体输送管(61)相连的管道。在所述管道的中游设有直径大于排出口的液池部分,其内部设有由阻塞所述管道的多孔体构成的过滤件(71)。所述过滤件(71)形成压降部分,使涂层液体输送管中产生的脉动在到达排出口之前被吸收。
申请公布号 CN1275701C 申请公布日期 2006.09.20
申请号 CN02154348.8 申请日期 2002.11.26
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 北野高广;古闲法久;武井利亲;川渊义行
分类号 B05C5/02(2006.01);B05C11/02(2006.01) 主分类号 B05C5/02(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 章社杲
主权项 1.一种涂层形成装置,包括:基片固定部分,用来固定基片;喷嘴部分,通过设在其末端的排出口将涂层液体供应到由所述基片固定部分固定的所述基片上;涂层液体输送通道,用来将所述涂层液体输送到所述喷嘴部分;管道,连接所述排出口和所述喷嘴部分的所述涂层液体输送通道,且其中一段的直径大于所述排出口的直径;压降部分,用来使所述涂层液体流经所述管道时产生压降;第一驱动部分,使所述喷嘴部分沿第一方向在基片表面上移动;和第二驱动部分,用来使所述喷嘴部分间歇地相对于所述基片沿与所述第一方向交叉的第二方向移动,沿所述第一方向移动的所述喷嘴部分使所述涂层液体直线地涂到所述基片表面上,所述喷嘴部分相对于所述基片的间歇移动使所述直线涂覆区域沿所述第二方向排列起来;所述管道包括圆形截面的部分,和所述压降部分包括封闭所述管道中所述圆形部分的圆球,并具有在所述圆球和所述圆形部分之间提供间隙的凹进部分。
地址 日本东京都