发明名称 |
用于设计具有增强的可制造性的集成电路的系统 |
摘要 |
公开了一种用于集成电路设计的方法和系统,用以通过产生捕获局部化布局需求的分级设计规则来增强电路布局的可制造性。与应用全局设计规则的常规技术相比,所公开的IC设计系统和方法基于指定的布局和集成电路属性,将原始设计布局分成期望的粒度水平。在该局部化的水平,适当调整设计规则以从可制造性的观点来捕获关键方面。这些经调整的设计规则然后用来执行局部化布局操纵和掩模数据转换。 |
申请公布号 |
CN1834969A |
申请公布日期 |
2006.09.20 |
申请号 |
CN200610008315.6 |
申请日期 |
2006.02.17 |
申请人 |
达酷美科技公司 |
发明人 |
阿尔缅·克罗扬;张幼平;埃特苏亚·莫里塔;阿德里亚努斯·利格滕伯格 |
分类号 |
G06F17/50(2006.01) |
主分类号 |
G06F17/50(2006.01) |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 |
代理人 |
徐谦;杨红梅 |
主权项 |
1.一种集成电路设计系统,包括:用于输入一输入布局和相关联的设计规则的装置;用于评价所述输入布局和所述设计规则的装置;用于产生与所述输入布局中的标识图案对应的局部化设计规则的装置;用于通过修改设计规则来聚积与局部化图案相关联的一新的细化设计规则集以增加可制造性的装置;用于基于对应的经修改的设计规则来处理局部化图案以产生细化的设计的装置;以及用于输出所述细化的设计的装置。 |
地址 |
美国 |