发明名称 曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法
摘要 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上,从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响,良好地进行曝光处理。
申请公布号 CN1830064A 申请公布日期 2006.09.06
申请号 CN200480021856.1 申请日期 2004.07.26
申请人 株式会社尼康 发明人 马込伸贵;小林直行;榊原康之;高岩宏明
分类号 H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01) 主分类号 H01L21/027(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 许海兰
主权项 1.一种曝光装置,通过液体将曝光用光照射到基板,对基板进行曝光;其中具有:将图形像投影到基板上的投影光学系;以及将液体供给到投影光学系与基板之间的液体供给机构,上述液体供给机构在检测到异常时停止液体的供给。
地址 日本东京