发明名称 |
曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法 |
摘要 |
本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上,从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响,良好地进行曝光处理。 |
申请公布号 |
CN1830064A |
申请公布日期 |
2006.09.06 |
申请号 |
CN200480021856.1 |
申请日期 |
2004.07.26 |
申请人 |
株式会社尼康 |
发明人 |
马込伸贵;小林直行;榊原康之;高岩宏明 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
许海兰 |
主权项 |
1.一种曝光装置,通过液体将曝光用光照射到基板,对基板进行曝光;其中具有:将图形像投影到基板上的投影光学系;以及将液体供给到投影光学系与基板之间的液体供给机构,上述液体供给机构在检测到异常时停止液体的供给。 |
地址 |
日本东京 |