| 发明名称 | 用于纳米印刷光刻技术的气动方法和装置 | ||
| 摘要 | 一种用于纳米光刻技术的方法(和装置)，包括向半硬掩模或模板的表面和光致抗蚀剂覆盖的工件的部分表面中的至少一个施加气动压力，和通过施加气动压力，将图案从掩模转印到工件上。 | ||
| 申请公布号 | CN1776527A | 申请公布日期 | 2006.05.24 |
| 申请号 | CN200510124657.X | 申请日期 | 2005.11.14 |
| 申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | 马修·E.·科尔博恩;伊夫·C.·马丁;西奥多·G.·范·克赛尔;荷玛萨·K.·维克拉玛辛赫 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01);G03F1/16(2006.01) | 主分类号 | G03F7/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 张浩 |
| 主权项 | 1、一种用于纳米光刻技术的方法，包括：向半硬掩模或模板的表面和抗蚀剂涂覆的工件的部分表面中的至少一个施加气动压力；和通过施加上述气动压力，将图案从所述的掩模转印到所述的工件上。 | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||