发明名称 半导体装置
摘要 一种半导体装置,现有的单片双型MOSFET由于构成使漏极区域共通的两个MOSFET的芯片并列的结构,故漏极区域的电阻值高,装置的导通电阻的降低有限。本发明的半导体装置,将第一源极电极连接的第一MOS晶体管和第二源极电极连接的第二MOS晶体管在一个芯片上相邻交替地配置。在第一源极电极及第二源极电极上分别施加不同的电位,两MOS晶体管通过一个栅极端子进行开关控制。由于电流沿槽周围流动,故可降低导通电阻。
申请公布号 CN1776911A 申请公布日期 2006.05.24
申请号 CN200510125451.9 申请日期 2005.11.17
申请人 三洋电机株式会社 发明人 柳田正道;万代忠男
分类号 H01L27/04(2006.01) 主分类号 H01L27/04(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 李贵亮;杨梧
主权项 1、一种半导体装置,其特征在于,具有:构成漏极区域的半导体衬底;设于所述漏极区域,且由施加于一个栅极端子上的控制信号控制的多个MOS晶体管,相邻的两个所述MOS晶体管分别与施加不同的电位的两个源极端子连接。
地址 日本大阪府