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发明名称 LITHOGRAPHIEGERÄT MIT EINER POSITIONIERVORRICHTUNG MIT ZWEI OBJEKTHALTERN
摘要
申请公布号 DE69829614(T2) 申请公布日期 2006.03.09
申请号 DE19986029614T 申请日期 1998.02.27
申请人 ASML NETHERLANDS B.V., VELDHOVEN 发明人 LOOPSTRA, ROELOF;BONNEMA, MAARTEN;VAN DER SCHOOT, KLAAS;VELDHUIS, PETER;KWAN, PATRICK
分类号 H01L21/027;B23Q1/62;B23Q11/00;G01B21/00;G03F7/20;G12B5/00;H01L21/68 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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