发明名称 箔疋用的照射站
摘要 一种箔疋用的照射站(1),以及利用这种照射站(1)制造的可呈光学方式变化的元件;该照射站(1)用于在一条箔疋(3)的一个或数个层中产生部分地构成的区域;该可呈光学方式变化的元件具有不同光学性质的部分构成的区域。该照射站(1)有一个或数个辐射源(11),以照射该箔疋(3)。该照射站(1)还有一条光罩带(2),该光罩带(2)具有不同光学性质的部分地构成的区域,且在一照射区域(18)中在该一个或数个辐射源(11)与箔疋(3)间的辐射道中导进。该照射站(1)还有二个或数个导引件(182)(183)以将该光罩带导引及/或将该箔疋导引,该导引件设成使光罩带(2)在照射区域(18)中平行于箔疋(3)导进。此外,该照射站(1)具有联接(耦合)手段(181)(182)(183)(184),以将该光罩带(2)(5)和箔疋(3)在照射区域(18)中用与箔疋(3)(6)同样的速度运动。
申请公布号 TW200528928 申请公布日期 2005.09.01
申请号 TW093117858 申请日期 2004.06.21
申请人 良合库尔兹有限两合公司 发明人 马缔亚斯 宰兹;哈默 卡秋瑞克
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 德国