| 发明名称 |
METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN BY SELECTIVE E-BEAM CURING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20050081684(A) |
申请公布日期 |
2005.08.19 |
| 申请号 |
KR20040010035 |
申请日期 |
2004.02.16 |
| 申请人 |
HYNIX SEMICONDUCTOR INC. |
发明人 |
SEO, JAE WOOK;OH, SOON HO |
| 分类号 |
G03F7/00;(IPC1-7):G03F7/00 |
主分类号 |
G03F7/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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