发明名称 |
涂敷膜形成装置及涂敷膜形成方法 |
摘要 |
本发明提供一种抑制在基板表面上的转写痕迹的发生,同时防止粒子向基板背面的附着的涂敷膜形成装置及涂敷膜形成方法。抗蚀剂涂敷处理装置(CT)(23a)备有设置有多个用于喷射气体的气体喷射口(16a)的台(12);在台(12)上沿X方向运送LCD基板(G)的基板运送机构(13);向在台(12)上移动的LCD基板(G)的表面供给抗蚀剂液的抗蚀剂供给喷嘴(14)。通过从气体喷射口(16a)喷射出的气体,以LCD基板(G)大致水平姿势地从台(12)的表面向上浮起的状态,通过基板运送机构(13)将LCD基板(G)运送到台(12)上。 |
申请公布号 |
CN1651155A |
申请公布日期 |
2005.08.10 |
申请号 |
CN200510001657.0 |
申请日期 |
2005.02.03 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
山崎刚;宫崎一仁;立山清久 |
分类号 |
B05C5/00;B05B13/02;B05C11/10;B05D3/00;B05D1/42;B05D1/02;C03C17/00 |
主分类号 |
B05C5/00 |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
1.一种涂敷膜形成装置,所述涂敷膜形成装置一边沿一个方向运送基板,一边将规定的涂敷液供给至所述基板,从而形成涂敷膜,其特征在于,所述装置具有:设置有用于在表面的规定位置喷射规定气体的多个气体喷射口的台;在所述台上沿一个方向运送基板的基板运送机构;将规定的涂敷液供给至在所述台上移动的基板的表面上的涂敷液供给喷嘴,所述基板,通过从所述气体喷射口喷射气体,以大致水平姿势地从所述台的表面向上浮起的状态,通过所述基板运送机构来运送。 |
地址 |
日本东京 |