| 发明名称 | 含水的溶脱和洗涤组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于从半导体基片上去除后蚀刻有机和无机残留物及高分子残留物及污染物的含水组合物。该组合物由水溶性有机溶剂、磺酸和水组成。 | ||
| 申请公布号 | CN1612927A | 申请公布日期 | 2005.05.04 |
| 申请号 | CN03802036.X | 申请日期 | 2003.01.06 |
| 申请人 | 气体产品及化学制品公司 | 发明人 | 马修·I·埃贝;达里尔·W·彼得斯 |
| 分类号 | C11D1/62;C23G1/00;C23G1/02;C03C23/00;B08B3/00;B08B3/12;B08B6/00 | 主分类号 | C11D1/62 |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 于辉 |
| 主权项 | 1.一种组合物，包含：A)水溶性有机溶剂，B)磺酸或其相应的盐，和C)水。 | ||
| 地址 | 美国宾夕法尼亚 | ||