发明名称 附有阻蚀膜之基板之制造方法
摘要 本发明之课题系关于使用通称为「CAP涂层器」之涂布装置进行阻蚀剂之涂布之情况,减小涂布膜的膜厚分布,且提高藉由经涂布之阻蚀剂所形成之阻蚀膜的膜厚均匀性。本发明之解决手段系透适涂布喷嘴22之上端部对被涂布面10a将阻蚀剂21接液后,令涂布喷嘴22之上端部与被涂布面10a之间隔G,于经接液之阻蚀剂21较由被涂布面10a离液之离液间隔更不乏范围内,以此离液间隔之50%的以上为其间隔。
申请公布号 TW200507950 申请公布日期 2005.03.01
申请号 TW093121119 申请日期 2004.07.15
申请人 HOYA股份有限公司 发明人 元村秀峰
分类号 B05C5/02 主分类号 B05C5/02
代理机构 代理人 赖经臣
主权项
地址 日本