| 发明名称 |
ACID-SENSITIVE COMPOUND AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTORESIST |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1000924(A4) |
申请公布日期 |
2005.01.05 |
| 申请号 |
EP19990953334 |
申请日期 |
1999.05.20 |
| 申请人 |
DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. |
发明人 |
NAKANO, TATSUYA |
| 分类号 |
C07C69/00;C07C69/54;G03F7/004;G03F7/039;(IPC1-7):C07C69/54;C08F20/12;C08L33/06 |
主分类号 |
C07C69/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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