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发明名称
光学薄膜、其制造方法、使用其之影像显示装置
摘要
为提供一种含有基材与双折射层、且该基材与双折射层的密合性优异之光学薄膜。本发明之光学薄膜,藉由在基材上涂布双折射层之形成材料形成涂布膜,使该基材延伸或收缩,随之使该涂布膜延伸或收缩,而使形成该涂布膜之该形成材料固化,藉此,在该基材上形成双折射层。该形成材料,系以分散或溶解于溶剂而成之溶液进行涂布;该溶剂,系使用对该基材有溶解性之溶剂,于该涂布步骤中,藉由使该溶剂渗透到该基材内部之一部份,可提供基材与双折射层密合性优异之光学薄膜。
申请公布号
TW200428110
申请公布日期
2004.12.16
申请号
TW093111850
申请日期
2004.04.28
申请人
日东电工股份有限公司
发明人
村上奈穗;西小路佑一;吉见裕之
分类号
G02F1/13363;G02B5/30
主分类号
G02F1/13363
代理机构
代理人
林镒珠
主权项
地址
日本
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