SOURCE REAGENT COMPOSITIONS AND METHOD FOR FORMING METAL FILMS ON A SUBSTRATE BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION,申请号EP20010964374-传众专利搜索

发明名称	SOURCE REAGENT COMPOSITIONS AND METHOD FOR FORMING METAL FILMS ON A SUBSTRATE BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
摘要
申请公布号	EP1313744(A4)	申请公布日期	2004.03.31
申请号	EP20010964374	申请日期	2001.08.23
申请人	ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.	发明人	GARDINER, ROBIN, A.;KIRLIN, PETER, S.;BAUM, THOMAS, H.;GORDON, DOUGLAS;GLASSMAN, TIMOTHY, E.;POMBRIK, SOFIA;VAARTSTRA, BRIAN, A.
分类号	C07C49/92;C07F1/00;C07F3/00;C07F5/00;C07F5/06;C07F7/00;C07F7/28;C07F9/00;C07F9/94;C07F11/00;C07F15/00;C23C16/18;C23C16/30;C23C16/40;(IPC1-7):C07F9/00	主分类号	C07C49/92
代理机构		代理人
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