| 发明名称 |
GAS DISTRIBUTION SYSTEM FOR A CVD PROCESSING CHAMBER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG97977(A1) |
申请公布日期 |
2003.08.20 |
| 申请号 |
SG20000006751 |
申请日期 |
2000.11.21 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
ALAN W. COLLINS;TETSUYA ISHIKAWA;LILY L. PANG;FENG GAO;PADMANABHAN KRISHNARAJ |
| 分类号 |
H01L21/20;C23C16/40;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/507;H01J37/32;H01L21/00;H01L21/31;H01L21/316;H01L21/469;(IPC1-7):C23C16/40 |
主分类号 |
H01L21/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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