发明名称 | 对数据存储介质减小力矩接触的磁头 | ||
摘要 | 磁头设置有衬底和成型在该衬底上的磁场生成线圈。该衬底具有对着存储磁盘的主表面,并将该衬底分割为内部区域和围绕该内部区域的外部区域。该磁头还包括封闭该线圈并对着存储磁盘的介质层。介质层被成型在衬底主表面的内部区域内,而不是成型在外部区域内。倾斜时,存储磁盘接触介质层,从而避免了撞击衬底主表面的外部区域。 | ||
申请公布号 | CN1434444A | 申请公布日期 | 2003.08.06 |
申请号 | CN02152683.4 | 申请日期 | 2002.11.29 |
申请人 | 富士通株式会社 | 发明人 | 藤巻徹;松本刚 |
分类号 | G11B11/10 | 主分类号 | G11B11/10 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 冯赓宣 |
主权项 | 1.一种磁头,该磁头包括:线圈,用于产生施加到记录介质的磁场;衬底,其主表面对着记录介质,该主表面包括内部区域和围绕该内部区域的外部区域;以及接触部件,对着记录介质,在记录介质倾斜时,该接触部件接触记录介质;其中仅将该接触部件设置在主表面的内部区域内以防止倾斜的记录介质接触主表面的外部区域。 | ||
地址 | 日本神奈川 |