| 摘要 |
<p>L'invention concerne un masque conçu pour permettre l'amincissement d'une membrane et pour conserver sa propre résistance. L'invention concerne également un procédé permettant de fabriquer un tel masque, ainsi qu'un procédé permettant de fabriquer un dispositif semi-conducteur destiné à la formation haute précision d'un motif fin. Cette invention concerne un masque comprenant une membrane fine, des orifices permettant la transmission de rayonnements de particules chargées (de préférence, des rayonnements électroniques) ménagés dans la membrane fine, une couche de support recouvrant une face de la membrane fine, et une ouverture ménagée dans la membrane fine, dont le diamètre est plus grand que le diamètre de l'orifice. L'invention concerne également un procédé permettant de fabriquer ce masque ainsi qu'un procédé permettant de fabriquer un dispositif semi-conducteur comprenant l'étape de lithographie consistant à utiliser un tel masque.</p> |
