| 主权项 |
1.一种将包括含氧化合物之进料转化成包括轻烯烃之产物的方法,该方法包括:提供一包括含氧化合物之进料;且在反应器中使该进料与一包括非沸石型分子筛之触媒接触,该接触是在足以将该含氧化合物转化成包括轻烯烃之产物的条件下发生,该条件包括至少每秒1公尺之气体表面速度。2.如申请专利范围第1项之方法,其进一步包括再循环该触媒之第一部分以再接触该进料。3.如申请专利范围第2项之方法,其进一步包括至少一择自由以下组成之群中的步骤:以液体型式提供该进料之一部分至该反应器设备;且提供液体稀释剂至该反应器设备。4.如申请专利范围第3项之方法,其中该至少一步骤包括提供非反应性固体至该反应器设备且该方法进一步包括自该反应器设备除去该触媒和非反应性固体之第二部分;将自该反应器设备除去之该触媒和该非反应性固体之该第二部分的至少一部分再生以形成触媒和非反应性固体之经再生的部分;且将该触媒和该非反应性固体之经再生部分返回该反应器。5.如申请专利范围第3项之方法,其中该至少一步骤包括在该反应器设备之多个位置处提供液体稀释剂给反应器设备。6.如申请专利范围第1项之方法,其进一步包括以下步骤:自该反应器设备除去该触媒之第二部分;将自该反应器设备所除去之该触媒之该第二部分的至少一部分再生以形成触媒之经再生部分;且使该触媒之该经再生部分返回至该反应器设备。7.如申请专利范围第2项之方法,其中该触媒之该第一部分的再循环在该反应器设备中保持少于100℃之温度差异。8.如申请专利范围第7项之方法,其中该触媒之该第一部分的再循环在该反应器设备中保持少于50℃之温度差异。9.如申请专利范围第8项之方法,其中该触媒之该第一部分的再循环在该反应器设备中保持少于30℃之温度差异。10.如申请专利范围第4项之方法,其在返回该触媒之该经再生部分和该非反应性固体至该反应器设备的步骤前,进一步包括以下步骤:冷卸该经再生触媒和该非反应性固体至一温度,其比自该反应器设备所除去之该触媒的该第二部分和该非反应性固体之温度高200℃至低200℃。11.如申请专利范围第6项之方法,其在返回该触媒之该经再生部分至该反应器设备之步骤前,进一步包括以下步骤:冷却该经再生触媒之至少一部分至一温度,其比自该反应器设备所除去之该触媒的温度高200℃至低200℃。12.如申请专利范围第2项之方法,其中将该含有含氧化合物之进料转化成轻烯烃之该方法是在一具有入口区,反应区和解除区之反应器设备中进行的,该反应区位于该入口区和该解除区之间;该包括含氧化合物之进料被提供至该入口区;该产物在该解除区中与该触媒分离;且该触媒之第一部分自该解除区再循环回该入口区。13.如申请专利范围第12项之方法,其进一步包括以下步骤:自该反应器设备除去在该解除区中之该触媒的第二部分;将自该反应器设备所除去之该触媒之该第二部分的至少一部分再生以形成触媒之经再生部分;且返回该触媒之该经再生部分至该反应器设备。14.如申请专利范围第13项之方法,其中该触媒之该经再生部分返回至该入口区,该反应区域该解除区。15.如申请专利范围第1项之方法,其中该非沸石型分子筛是矽铝磷酸盐分子筛。16.如申请专利范围第12项之方法,其中该非沸石型分子筛是矽铝磷酸盐分子筛。17.如申请专利范围第1至16项中任一项之方法,其中该气体表面速度大于每秒2公尺。18.如申请专利范围第17项之方法,其中该气体表面速度大于每秒2.5公尺。19.如申请专利范围第18项之方法,其中该气体表面速度大于每秒4公尺。20.如申请专利范围第19项之方法,其中该气体表面速度大于每秒8公尺。图式简单说明:图示提供一系列之作图,显示对于实例中所述之每一情况而言,沿着反应器长度之温度轮廓。 |
