| 发明名称 |
Werkwijze voor het vormen van een dunne-halfgeleiderfilm. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
NL194832(B) |
申请公布日期 |
2002.12.02 |
| 申请号 |
NL19850003269 |
申请日期 |
1985.11.26 |
| 申请人 |
SONY CORPORATION (SONY KABUSHIKI KAISHA) |
发明人 |
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| 分类号 |
H01L21/20;H01L21/265;H01L29/786;(IPC1-7):C23C16/40;C23C14/48;C23C16/56;H01L21/84;H01L21/365;H01L21/425 |
主分类号 |
H01L21/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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