| 主权项 |
1.一种光扫描装置,包含: 一光源,其发射光; 一光管,位在从该光源发射的光的路径中,该光管 包含一反射表面及一漫射器,该反射表面将光朝向 该漫射器反射,并且该漫射器将光漫射至该光管之 外;及 一侦测器阵列,接收从该光源发射的光。2.如申请 专利范围第1项所述的光扫描装置,其中该光管另 外包含一反射凹槽,该反射表面经由该反射凹槽而 将光朝向该漫射器反射,并且该反射凹槽将光朝向 该漫射器反射。3.如申请专利范围第1项所述的光 扫描装置,另外包含一物体,其中该物体将来自该 漫射器的光朝向该侦测器阵列反射。4.如申请专 利范围第3项所述的光扫描装置,其中该物体包含 条码,文件,信用卡,支票,旅行支票,机器幻像物体, 及货币的至少之一。5.如申请专利范围第3项所述 的光扫描装置,另外包含一聚焦透镜,其中该聚焦 透镜将从该物体反射的光朝向该侦测器阵列聚焦 。6.如申请专利范围第2项所述的光扫描装置,其中 该光源包含一表面安装发光二极体。7.如申请专 利范围第1项所述的光扫描装置,其中该漫射器包 含与棱镜结构组合的一可变漫射器及一非朗伯(non -lambertian)漫射器的至少之一。8.一种光漫射装置, 包含: 一全息介质;及 一漫射图型,其漫射角度横越该全息介质逐渐地改 变。9.如申请专利范围第8项所述的光漫射装置,其 中该角度为45度及135度的至少之一。10.如申请专 利范围第8项所述的光漫射装置,其中该漫射图型 可包含具有不同漫射角度的多个漫射图型,该多个 漫射图型互相重叠以横越该全息介质产生逐渐改 变的漫射图型。11.如申请专利范围第10项所述的 光漫射装置,其中该多个漫射图型以每一漫射图型 的面积的大约10%互相重叠。12.如申请专利范围第 10项所述的光漫射装置,其中该漫射图型横越该全 息介质的轴线不对称地改变。13.如申请专利范围 第10项所述的光漫射装置,其中该漫射图型横越该 全息介质的轴线线性地改变。14.如申请专利范围 第10项所述的光漫射装置,另外包含电梯楼层数字 显示,路边标志,机场起飞标志,商店标志,出口标志 ,建筑照明,加油站标志,汽车显示,驾驶舱显示,医 药感测器,感测器照明,机器幻像中的感测器源,全 球定位系统单元,银行终端机,机器幻像,玩具,及含 有全息介质的工业应用的至少之一。15.一种制造 可变漫射器母机的系统,包含: 一光源,其投射光; 一遮罩,在从该光源投射的光的路径中;及 一开口,于该遮罩,该开口的尺寸可改变,并且该开 口使光通过该遮罩。16.如申请专利范围第15项所 述的制造可变漫射器母机的系统,另外包含一板件 ,其中于该遮罩的该开口使先通过该遮罩至该板件 。17.如申请专利范围第16项所述的制造可变漫射 器母机的系统,其中该光源将光依序投射通过于该 遮罩的该开口而至该板件的重叠部份上。18.如申 请专利范围第16项所述的制造可变漫射器母机的 系统,其中该光源将光沿着一轴线依序投射通过于 该遮罩的该开口而至该板件的重叠部份上。19.如 申请专利范围第16项所述的制造可变漫射器母机 的系统,另外包含在从该光源投射的光的路径中的 一圆柱透镜。20.如申请专利范围第16项所述的制 造可变漫射器母机的系统,另外包含位在该遮罩的 与该光源相反之侧的一挡件,该挡件也位在从该光 源投射的光的路径中,并且该挡件阻挡从该光源投 射的一些光。21.如申请专利范围第17项所述的制 造可变漫射器母机的系统,另外包含: 一第一屏蔽,位在从该光源投射的光的路径中;及 一开口,于该第一屏蔽,于该第一屏蔽的该开口容 许从该光源投射的一些光通过该开口。22.如申请 专利范围第21项所述的制造可变漫射器母机的系 统,另外包含: 一第二屏蔽,位在该遮罩的与该光源相反之侧,该 第二屏蔽也位在从该光源投射的光的路径中;及 一开口,于该第二屏蔽,于该第二屏蔽的该开口容 许从该光源投射的一些光通过该开口。23.如申请 专利范围第21项所述的制造可变漫射器母机的系 统,其中该第二屏蔽的位置离开该遮罩及该光源的 至少之一一段距离,并且该距离随着该板件的该重 叠部份的每一个而改变。24.如申请专利范围第17 项所述的制造可变漫射器母机的系统,其中该遮罩 及该第二屏蔽的该开口的尺寸随着该板件的该重 叠部份的每一个而改变。25.一种制造可变漫射器 母机的方法,包含: 将一板件放置在一光源的前方;及 从光源依序发射光至该板件的重叠部份上。26.如 申请专利范围第25项所述的制造可变漫射器母机 的方法,另外包含: 将具有一开口的一遮罩放置在该板件与该光源之 间;及 随着光的每一依序发射改变于该遮罩的该开口的 尺寸。27.如申请专利范围第26项所述的制造可变 漫射器母机的方法,另外包含: 将一挡件放置在该遮罩与该板件之间;及 随着光的依序发射的至少之一改变该挡件的尺寸 。28.如申请专利范围第27项所述的制造可变漫射 器母机的方法,另外包含: 将具有一开口的一屏蔽放置在该挡件与该板件之 间;及 随着光的每一依序发射改变于该屏蔽的该开口的 尺寸。29.如申请专利范围第26项所述的制造可变 漫射器母机的方法,另外包含随着光的每一依序发 射改变该板件离开该光源的距离。30.一种光感测 装置,包含: 一波导; 一光源,位在该波导的一侧,该光源发射光通过该 波导; 用来准直光的机构;及 一光侦测器,侦测由该光源所提供的通过该波导的 光。31.如申请专利范围第30项所述的光感测装置, 其中该用来准直光的机构包含位在该光源与该波 导之间的一准直透镜,该准直透镜准直从该光源所 提供的光通过该波导,该波导在光通过该波导时保 持光的准直。32.如申请专利范围第31项所述的光 感测装置,另外包含一印刷电路板,而该光源及该 光侦测器均位在该印刷电路板上。33.如申请专利 范围第30项所述的光感测装置,另外包含一编码器, 而该编码器位在该光侦测器与该波导之间。34.如 申请专利范围第33项所述的光感测装置,其中该编 码器包含一编码器磁盘。35.如申请专利范围第30 项所述的光感测装置,其中该波导具有一第一金属 化端部,一第二金属化端部,及一含侧边刻面,该第 一金属化端部位在该波导的与该第二金属化端部 相反的端部处。36.如申请专利范围第35项所述的 光感测装置,其中该第一金属化端部及该第二金属 化端部位在离该含侧边刻面在30至50度的范围内的 角度处。37.如申请专利范围第30项所述的光感测 装置,其中该光侦测器的位置相邻于该波导的与该 光源相同之侧。38.如申请专利范围第30项所述的 光感测装置,其中该用来准直光的机构包含一可变 漫射器。39.一种光感测装置,包含: 一波导; 一光源,其位置相邻于该波导的一侧,该光源发射 光至该波导; 一编码器;及 一光侦测器,侦测由该光源所提供的通过该波导及 该编码器的光。40.一种光分布装置,包含: 一光管;及 一可变漫射器,位在该光管上。41.一种光扫描装置 ,包含: 一光源,其发射光; 一波导,位在从该光源发射的光的路径中,该波导 包含一反射表面及一漫射器,该反射表面将光朝向 该漫射器反射,并且该漫射器将光漫射至该波导之 外;及 一侦测器阵列,接收从该光源发射而通过该波导的 光。42.如申请专利范围第3项所述的光扫描装置, 其中该物体包含一组系统的至少一系统,而该组系 统包含条码,文件,信用卡,支票,旅行支票,机器幻 像物体,及货币,以将该至少一系统减至最小。图 式简单说明: 图1为制造可变漫射器的方法的举例说明图。 图2为板件的举例说明图。 图3为遮罩的举例说明图。 图4至7为遮罩上的狭缝的改变的宽度的举例说明 图。 图8为重叠的漫射图型的举例说明图。 图9为板件的移动方向的举例说明图。 图10为各种不同的漫射图型的举例说明图。 图11为板件的移动方向的举例说明图。 图12为各种不同的漫射图型的举例说明图。 图13至16为狭缝的改变的宽度及高度的举例说明图 。 图17为漫射图型的举例说明图。 图18为板件的移动方向的举例说明图。 图19为漫射图型的举例说明图。 图20为板件的移动方向的举例说明图。 图21为漫射图型的举例说明图。 图22为制造可变漫射器的系统的举例说明图。 图23至26为槽沟及挡件的改变的尺寸的举例说明图 。 图27为在板件上所得的漫射图型的举例说明图。 图28为对称式可变漫射器的举例说明图。 图29为不对称式可变漫射器的举例说明图。 图30为背照显示器中的可变漫射器的举例说明图 。 图31为感测器的举例说明图。 图32为根据另一实施例的感测器的举例说明图。 图33为根据另一实施例的感测器的举例说明图。 图34为条码扫描器的举例说明图。 图35为根据另一实施例的扫描器的举例说明图。 图36为根据另一实施例的扫描器的举例说明图。 图37为根据另一实施例的扫描器的举例说明图。 图38为光管系统的举例说明图。 图39为根据另一实施例的光管系统的举例说明图 。 图40为光管系统的举例说明图。 图41为根据另一实施例的光管系统的举例说明图 。 |
