Verfahren zur Feststellung und automatischen Behebung von Phasenkonflikten auf alternierenden Phasenmasken

摘要

Es wird ein Verfahren beschrieben, mittels dessen in einem Layout einer zur Herstellung eines integrierten Halbleiterschaltkreises vorgesehenen Phasenmaske vorkommende Phasenkonflikte (4, 24) explizit lokalisiert und automatisiert behoben werden können. Der in einem ersten Schritt des Verfahrens unter alleiniger Verwendung der an das Design gestellten technologischen Anforderungen bestimmte Satz von Phasenkonflikten (4, 24) ist vollständig und minimal und erweist sich somit als optimaler Ausgangspunkt für den nachfolgenden zweiten Schritt, bestehend in einem Verfahren zur automatischen Handhabung und Behebung derartiger Konflikte.