| 发明名称 | 有机抗反射涂料聚合物,抗反射涂料组合物及其制备方法 | ||
| 摘要 | 式10的一种化合物,一种由式1化合物合成的具有式1结构的有机抗反射聚合物及其制备方法。一种含有以上有机抗反射聚合物的抗反射涂料组合物,以及抗反射涂料的制备方法。含有所公开聚合物的该抗反射涂层消除了由晶片上的下层光学性能和光刻胶的厚度变化所引起的驻波,防止了回射,还解决了由于从该下层衍射和反射的光引起的CD变换问题。这些优点使得能够形成适用于64M、256M、1G、4G和16GDRAM半导体器件的稳定的超微图案且产品的产率增加。而且,还能控制K值。 | ||
| 申请公布号 | CN1331257A | 申请公布日期 | 2002.01.16 |
| 申请号 | CN01123291.9 | 申请日期 | 2001.06.30 |
| 申请人 | 海力士半导体有限公司 | 发明人 | 洪圣恩;郑旼镐;郑载昌;李根守;白基镐 |
| 分类号 | C08F22/10;C09D133/08 | 主分类号 | C08F22/10 |
| 代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 黄益芬 |
| 主权项 | 1.一种具有下式10的结构的化合物：式10<img file="A0112329100021.GIF" wi="321" he="558" />其中：R为氢或甲基；R<sub>a</sub>R<sub>b</sub>，R<sub>1</sub>至R<sub>9</sub>各自选自-H、-OH、-OCOCH<sub>3</sub>、-COOH、-CH<sub>2</sub>OH，具有1至5个碳原子的烷基和具有1至5个碳原子的烷氧烷基；m代表选自1、2、3、4和5的一个整数。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||