涂敷和显影系统

摘要

本发明的涂敷和显影系统具有处理区,该处理区有用于在基片上形成涂层薄膜的涂敷单元、用于显影基片的显影单元、用于对基片进行热处理的热处理单元、用于将基片从涂敷单元、显影单元和热处理单元传送或传送到这些单元的第一传送装置,该系统还有一接口部分,在该接口部分中基片至少沿上述处理区和该系统外侧的对基片进行曝光处理的曝光单元之间的路径传送,该系统还有用于容纳上述处理区和接口部分的壳体,用于给上述接口部分供应惰性气体的供气装置,以及排出上述接口部分内的气氛的排气部分,和所述的热处理单元,和用于将基片在该热处理单元和曝光处理单元之间的路径上传送的、位于上述接口部分内的第二传送装置。根据本发明,可以防止分子水平的杂质比如氧气、碱性物质、臭氧和有机物质附着到基片上,从而适于对基片进行处理和加工。

主权项

1．一种用于对基片进行涂敷和显影处理的涂敷和显影系统，包含：处理区，该处理区有用于在基片上形成涂层薄膜的涂敷单元、用于显影基片的显影单元、用于对基片进行热处理的热处理单元、用于将基片从涂敷单元、显影单元和热处理单元传送或传送到这些单元的第一传送装置；接口部分，在该接口部分中基片至少沿所述处理区和该系统外侧的对基片进行曝光处理的曝光单元之间的路径传送；用于容纳所述处理区和所述接口部分的壳体；用于给所述接口部分供应惰性气体的供气装置；排出所述接口部分内的气氛的排气部分；其特征在于所述的热处理单元，和用于在该热处理单元和曝光处理单元之间的路径上传送基片的第二传送装置位于所述接口部分内。