| 发明名称 |
PLASMA TREATING METHOD AND DEVICE THEREFOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10140360(A) |
申请公布日期 |
1998.05.26 |
| 申请号 |
JP19960298416 |
申请日期 |
1996.11.11 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
ANAMI HIDETOSHI;SASAKI SHINJI;OTSUBO TORU;INABA HIROSHI;KOKADO YUICHI;KATAOKA HIROYUKI;HONDA YOSHINORI;FUJIMAKI SHIGEHIKO |
| 分类号 |
C23C14/02;C23C16/27;C23C16/50;H01L21/203;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):C23C16/50;H01L21/306 |
主分类号 |
C23C14/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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