| 发明名称 |
Process for the anisotropic etching of III-V materials: use in surface treatment before epitaxial deposition. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0292390(B1) |
申请公布日期 |
1994.08.03 |
| 申请号 |
EP19880401214 |
申请日期 |
1988.05.19 |
| 申请人 |
FRANCE TELECOM |
发明人 |
HENRY, LOIC;VAUDRY, CLAUDE |
| 分类号 |
H01L21/306;C23F4/00;H01L33/00;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/306 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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