| 摘要 |
<p>Vorhanden ist eine Plasmakammer (5), in der das für die Plasmaerzeugung erforderliche Vakuum erzeugt wird und in die die Mikrowellen eingekoppelt werden, eine Plasmaelektrode (10) und eine Extraktionselektrode (13), durch die hindurch die erzeugten Ionen aus dem Plasma extrahiert werden, wobei durch Spannungsdifferenz (etwa 20 kV) zwischen der Plasma- und der Extraktionselektrode ein sogenanntes Ziehfeld aufgebaut wird. Die Plasmakammer (5) ist mit einem oder mehreren Materialverdampferöfen (8) ausgestattet, die es gestatten, Plasmen und damit Ionen beliebiger Elemente zu erzeugen. Dem aus der Plasmakammer (5) kommenden und durch die Plasma- und Extraktionselektrode (10 bzw. 13) hindurchtretenden Ionenstrahl (11) wird ein in der Extraktionselektrode (13) erzeugter und elektrisch wie magnetisch gebündelter Elektronenstrahl (12) derart überlagert, dass sich ein elektronischer Extraktionskanal mit Raumladungskompensation für die Ionen ausbildet.</p> |
