发明名称 |
PROCESS FOR REDUCING THE EXPOSURE TO RADON IN CLOSED SPACES |
摘要 |
Pour réduire l'exposition au radon dans les espaces clos, on dépose et on fait sécher sur les surfaces de séparation une dispersion aqueuse et ne comportant ni solvant ni plastifiant d'un copolymère de chlorure de vinylidène et d'ester acrylique. La dispersion comporte également un tensio-actif non ionique à base d'un éthoxylate d'alkylphénol avec une proportion de 10 moles d'oxyde d'éthylène, un copolymère de la vinylpyrrolidone et un antimousse. |
申请公布号 |
WO9218984(A1) |
申请公布日期 |
1992.10.29 |
申请号 |
WO1992CH00063 |
申请日期 |
1992.04.06 |
申请人 |
HESCO AG INDUSTRIECONSULTING & INDUSTRIEVERTRETUNG |
发明人 |
HESS, JOSEF;JOCHMANN, LUDWIG |
分类号 |
G21F1/10 |
主分类号 |
G21F1/10 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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