LENS ARRAYS FOR LIGHT SENSITIVE DEVICES

摘要

Selon un procédé de fabrication de réseaux de lentilles pour dispositifs photosensibles ayant des lentilles essentiellement transparentes dans la plage de longueurs d'ondes comprise entre 400 nm et 1000 nm, (a) une couche d'écartement et d'aplanissement est agencée sur chaque élément capteur du dispositif; (b) on applique une couche de matériau photorésistant; (c) on applique de la chaleur sur le matériau photorésistant de façon à le faire couler et se structurer en formant le réseau désiré de lentilles sur la couche d'écartement et d'aplanissement; et (d) on recouvre les lentilles ainsi formées avec une couche conforme d'un matériau diélectrique transparent tel que le dioxyde de silicium ayant entre 1000 et 3000 Å d'épaisseur.