| 摘要 |
〔解决手段〕含有具有一般式(1)所示重覆单位之重量平均分子量为1,000~500,000之高分子化合物的光阻材料。091132080p01.bmp(R^1为表示氢原子、羟基、直链状或分支状之烷基、卤原子、或三氟甲基，R^2为表示氢原子、羟基、卤原子、或三氟甲基。又，n为0或1~4之正整数)。〔效果〕本发明为经由令酸作用而分解且对于硷之溶解性增加的第三戊氧基苯乙烯使用做为反应性基的高分子化合物，配合至做为基底树脂的光阻材料中，则可大幅提高曝光前后之硷溶解速度的对比度，且于高感度下，使用第三丁氧基苯乙烯之情形中可实现于100~110℃之难烘焙温度区域下的高解像性。 |
