发明名称 |
投影曝光用掩模、投影曝光装置、及投影曝光方法 |
摘要 |
本发明公开一种用于将连续形状图案和不连续形状图案曝光到被曝光部件的小型而且低成本的投影曝光用掩模。投影曝光用掩模具有用于将连续图案曝光到被曝光部件的第一掩模图案和用于将不连续图案曝光到上述被曝光部件的第二掩模图案。上述第一和第二掩模图案中的一方的掩模图案为反射型掩模图案,另一方的掩模图案为透过型掩模图案。 |
申请公布号 |
CN100343759C |
申请公布日期 |
2007.10.17 |
申请号 |
CN200410003753.4 |
申请日期 |
2004.01.30 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
饭塚和央;磯端纯二;田中信义 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03F7/00(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
李德山 |
主权项 |
1.一种投影曝光用掩模,用于扫描型投影曝光装置,该扫描型投影曝光装置仅把被曝光部件在预定方向上扫描驱动,从而在上述被曝光部件的表面上曝光包含连续图案和不连续图案的曝光图案,其特征在于:具有用于在该被曝光部件的扫描方向上将上述连续图案曝光到被曝光部件的第一掩模图案和用于在上述扫描方向上将上述不连续图案曝光到上述被曝光部件的第二掩模图案,上述第一和第二掩模图案中的一个掩模图案为反射型掩模图案,另一个掩模图案为透过型掩模图案。 |
地址 |
日本东京 |