Verfahren zur Herstellung einer Durchkontaktierung bei einer Mehrlagen-Leiterplatte

摘要

Verfahren zur Herstellung einer Durchkontaktierung zwischen ober- und unterseitig angeordneten Leiterbahnen bei einer Mehrlagen-Leiterplatte, welche aus einem Leiterplattenmaterial und mindestens einem in den Verbund der Mehrlagen-Leiterplatte eingebetteten Kupferprofil besteht, wobei die Durchkontaktierung durch folgende Verfahrensschritte hergestellt wird: • Herstellen einer ersten Bohrung mit einem ersten Bohrdurchmesser durch die Mehrlagen-Leiterplatte mit Durchbohrung der ober- und unterseitigen Leiterbahn und des eingebetteten Kupferprofils; • Füllen der ersten Bohrung mit einem isolierenden Füllmaterial; • Herstellen einer zweiten Bohrung koaxial zur ersten Bohrung mit einem zweiten, kleineren Bohrdurchmesser als der Bohrdurchmesser der ersten Bohrung; • Auskleidung der Bohrungswand der zweiten Bohrung mit einem elektrisch leitfähigen Material und derart die elektrische Kontaktierung der ober- und unterseitigen Leiterbahnen.