Apparatus for cleaning wafer

摘要

본 발명에 따른 반도체 웨이퍼 세정 장치는 웨이퍼(W)에 대한 세정 공간을 제공하는 세정 챔버(1); 상기 세정 챔버(1) 내부에 배치된 상태에서 상기 웨이퍼(W)를 고정시켜 회전하게 하는 웨이퍼 고정척(5); 상기 웨이퍼 고정척(5)의 상부에 이격 배치되는 세정 가이드 블럭(10); 상기 세정 가이드 블럭(10)의 중앙부에 연결되는 세정 물질 공급 모듈(20); 및 상기 세정 가이드 블럭(10)의 중앙부 외측을 통해 상기 웨이퍼(W)에 대한 세정이 이루어진 세정 물질을 상기 세정 챔버(1)의 외부로 배출하게 하는 회수 모듈(30);을 포함한다.