| 主权项 |
1﹒一种将─羟基羧酸组成物寡聚体解聚成二聚环酯之方法,该方法包含:将─羟基羧酸或其对应之寡聚化酯或氮硷盐之熔融寡聚体持续地供料至反应区;使该熔融寡聚体以约0﹒05至约1﹒0mm厚度薄膜之形式置于蒸发面上;于有效解聚作用温度且低至足以蒸发环酯之减压下将该膜解聚及蒸发;及收集所得之含二聚环酯之蒸气组成物。2﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中该解聚作用系于一种薄膜蒸发器中进行。3﹒根据申请专利范围第2项之方法,其中该蒸发器为一种擦拭薄膜蒸发器。4﹒根据申请专利范围第1,2或3项之方法,其中该寡聚体包括一种乳酸寡聚体,或是一种可寡聚化的酯类,或其氮硷盐类,并且,该二聚合环酯为一种丙交酯。5﹒根据申请专利范围第4项之方法,其中该寡聚体为一种乳酸的寡聚体。6﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中该加热反应区的蒸发面包括一种管状反应器的内壁,并且该寡聚绝系于该反应器的内部表面上涂抹成一种薄膜。7﹒根据申请专利范围第6项之方法,其中该反应器为一种擦拭薄膜蒸发器,并且擦拭该薄膜,因此,所述之寡聚体形成一种薄膜,其于该蒸发器内壁之上形成一种相当均匀的厚度。8﹒根据申请专利范围第1项之方法,其另包含:1)提供一种垂直处理的反应器,其具有(a)一种相当的管状反应区,以便解聚合所述之寡聚体,该反应区包括一种相当的管状蒸发面,其具有上层区域和下层区域;(b)一种寡聚体供料构造,其与该蒸发面的上层区域相通;(c)一种寡聚体残渣回收构造,其与该蒸发面的下层区域相通;(d)一种环酯冷凝构造,以便冷凝至少一部分所述之蒸气组成,其与该蒸发面相通,以及;(e)一种擦拭构造,其包含于该管状反应区之内,系用于将该寡聚体在该蒸发面上涂抹为一种薄膜,2)保持该蒸发面于所述之有效温度,并且该反应区于所述之减压;3)自所述之寡聚体供料构造流出上液态寡聚体,并且沿着该蒸发面,而以所述之擦拭构造擦拭该寡聚体,因此在该蒸发面上形成一种薄膜;4)冷凝所生成的蒸气组成,其包含于冷凝构造上的环酯;5)由该蒸发面下层区域,回收自步骤3)中未转化之寡聚体,以及;6)回收自步骤(4)的冷凝液之环酯。图示简单说明:图1系一种擦拭薄膜蒸发器与一种内部冷凝器的截面图。图2系图1中之擦拭薄膜蒸发器的截面图,其系与一种外部冷凝器连结在一起图3系本发明的图解区块图。 |
