发明名称 超音波清洗方法
摘要 〔目的〕以提供不分清洗对象均可获得优异清洗效果之超音波清洗方法为目的。〔要点〕供应水系清洗液1 至备有超音波振动器 5 之清洗槽 2 ,再将成形加工品 6 浸渍于清洗液 1 中。由超音波振动器 5 发射超音波至清洗液 1 藉以去除成形加工品6 表面之杂质及毛头而实施起意波清洗。清洗液 1 之溶解氧含量乃视清洗对象调整为 0.01 ~ 5 ppm之范围。清洗对象为附着于成形加工品 6 之固体杂质时清洗液 1之溶解氧含量则予脱气为 0.01 ~ 3 ppm,而系毛头时脱气为0.01 ~ 0.5 ppm。清洗对象如系介由油份附着于成形加工品 6 之固体杂质时,清洗液 1 之溶解氧含量包括界面活性剂应脱气为 2 ~ 5 ppm。清洗液 1 系由导入清洗液 1之密封槽13与抽减密封槽13内压力之减压装置14所组成之脱气机构10予以脱气。清洗液 1 通常加热为 30 ~ 55℃使用。〔选择图〕图1。
申请公布号 TW212146 申请公布日期 1993.09.01
申请号 TW082103406 申请日期 1993.05.01
申请人 S&C股份有限公司 发明人 柴野佳英
分类号 B08B3/12 主分类号 B08B3/12
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1﹒一种超音波清洗方法,其系将经脱气成溶解氧含量为所定范围之水系清洗液供应至在底部装置有超音波振动器之超音波清洗槽,浸渍成形加工品于该清洗液内,自超音波振动器向清洗液发射超音波以去除除者于成形加工品表表之杂质及成形加工品毛头加以清洗之超音波清洗方法,其特征为清洗液中之溶解氧含量视清洗对象调整成0﹒01-5pp<范围。2﹒如申请专利范围第1项之超音波清洗方法,其中在清洗对象为直接接触而附着于成形加工品表面之固体杂质时,以脱气清洗液至其溶解氧含量成0﹒01-3ppm范围。3﹒如申请专利范围第1项之超音波清洗方法,其中该清洗对象为自成形加工品无法完全分离之毛头时,以脱气清洗液至其溶解氧含量成0﹒01-0﹒5ppm范围。4﹒如申请专利范围第1项之超音波清洗方法,其中该清洗对象为介油分附着于成型加工品表面之固体杂质时,清洗液系含界面活性剂之水系清洗液,以其脱气至溶解氧含量成2-5ppm范围。5﹒如申请专利范围第1项之超音波清洗方法,将该清洗液经由导入清洗液之密封槽与减压密封槽内使所导入之清洗液中溶解气体放出至密封槽内空间之减压装置而构成之脱气机构予以脱气。6﹒如申请专利范围第1项之超音波清洗方法,以清洗液经加热至30-55℃范围之温度。7﹒一种加工品之超音波清洗方法,其系将第1水系清洗液予以脱气成其溶解氧含量为0﹒01-5ppm之范围内;将第2水系清洗液予以脱气成其溶解氧含量为与第1之水系清洗液之溶解氧含量不同的0﹒01-5ppm之范闭内;供应经脱气之该第1水系清洗液至在底部装置有超音波振动器之第1超音波清洗槽内;供应经脱气之该第2水系清洗液至在底部装置有超音波振动器之第2超音波清洗槽内;浸渍加工品于该第1超音波清洗槽中之第1清洗液内;自第1清洗槽之超音波振动器放射超音波,以除去加工品之杂质;浸渍加工品于该第2超音波清洗槽中之第2清洗液内;自第2清洗槽之超音波振动器放射超音波,以除去加工品之毛头。8﹒如申请专利范围第7项之超音波清洗方法,其中供应至第1清洗槽之该水系清洗液系为了除去介以油份附着于加工品上之固体杂质,使其脱气至溶解氧含量为2-5ppm之范围内;供应至第2清洗槽之该清洗液系为了自加工品除去毛头,使其脱气至溶解氧含量为1﹒01-0﹒5ppn之范围内。图示简单说明图1表示实施有关本发明案超音波清洗方法之超音波清洗装置某一构成例之模式图。图2表示实施有关本发明案超音彼清洗方法之超音波清洗装置其他构成例之模式图。图3表示清洗液之溶解氧含量空穴现象破坏时所产生冲击波强度之关系及与油份去除量之关系。
地址 日本