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发明名称
减少残留物之安定浓缩物
摘要
本发明系关于一种安定浓缩物与减少或预防残留物与浮渣形成在基材上的方法。此安定浓缩物含有硷性成份与另一化合物结合,该另一化合物的量足以减少或预防残留物与浮渣形成于基材上。此安定浓缩物可用于印刷电路板制造之显影程序中。
申请公布号
TW200307856
申请公布日期
2003.12.16
申请号
TW092112299
申请日期
2003.05.06
申请人
希普列公司
发明人
丹尼尔 E 兰帝;罗伯特 K 巴尔;爱德甲多 安苏利斯
分类号
G03F7/32
主分类号
G03F7/32
代理机构
代理人
洪武雄;陈昭诚
主权项
地址
美国
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