| 主权项 |
1.一种制造保全文件或装置之方法,该文件或装置包含一基材及一光绕射装置,该方法包含下述步骤:使用图样化雷射辐射照射该基材之一表面上的一区而消蚀该表面之选定部分,且因而该一表面形成一光绕射结构。2.如申请专利范围第1项之制造保全文件或装置之方法,该方法进一步包含下列步骤:设置一罩盖于雷射辐射路径上而形成该图样化雷射辐射。3.如申请专利范围第1项之制造保全文件或装置之方法,其中该基材包括一透明塑胶薄膜。4.如申请专利范围第2项之制造保全文件或装置之方法,其中该基材包括一透明塑胶薄膜。5.如申请专利范围第3或4项之制造保全文件或装置之方法,其中该透明塑胶薄膜系由聚合材料形成。6.如申请专利范围第3或4项之制造保全文件或装置之方法,其中该基材进一步包括施用于该透明塑胶薄膜之一透明涂层,该光绕射结构形成于该透明涂层中。7.如申请专利范围第6项之制造保全文件或装置之方法,其中该透明涂层系由聚合材料形成。8.如申请专利范围第6项之制造保全文件或装置之方法,其中该基材进一步包括施用于透明涂层之一反射涂层。9.如申请专利范围第8项之制造保全文件或装置之方法,其中该反射涂层系由含金属颜料粒子之聚合材料制成。10.如申请专利范围第8项之制造保全文件或装置之方法,其中该反射涂层及该透明涂层两者系由可对抗物理劣化之材料制成。11.如申请专利范围第6项之制造保全文件或装置之方法,其中该基材进一步包括施用于透明涂层之一透明层。12.如申请专利范围第11项之制造保全文件或装置之方法,其中该透明层系由聚合材料制成。13.如申请专利范围第11项之制造保全文件或装置之方法,其中该透明层及该透明涂层两者系由可对抗物理劣化之材料制成。14.如申请专利范围第3或4项中之制造保全文件或装置之方法,其中该基材进一步包括施用于透明塑胶薄膜之一反射涂层,该光绕射结构形成于反射涂层中。15.如申请专利范围第14项之制造保全文件或装置之方法,其中该反射涂层系由含金属颜料粒子之聚合材料制成。16.如申请专利范围第14项之制造保全文件或装置之方法,其中该基材进一步包括施用于该反射涂层之一透明涂层。17.如申请专利范围第16项之制造保全文件或装置之方法,其中该透明涂层系由聚合材料制成。18.如申请专利范围第16项之制造保全文件或装置之方法,其中该反射涂层及该透明涂层两者系由可对抗物理劣化之材料制成。19.如前述申请专利范围第2.3或4项之制造保全文件或装置之方法,该方法进一步包含下述步骤:施用至少一不透明层至该基材,该至少一不透明层仅部分遮盖该基材之一面而留下至少该光绕射装置系未由该不透明层所遮盖。20.一种制造保全文件或装置之方法,该文件或装置包含一基材及一一可侦测的保全装置,该方法包含下述步骤:暴露该基材一面上之一区于曝光过程而于该基材之该表面产生变化状态因而于该表面产生可侦测效应,如偏振图样或光绕射结构。21.一种制造保全文件或装置之方法,该文件或装置包含一基材及一可侦测的保全装置,该方法包含下述步骤:于一光源暴露该基材一面之一区,引发基材之光聚合反应,该基板依次产生偏振状态或图样。22.如申请专利范围第20或21项之方法,其进一步包括一或多个如申请专利范围第2至19项中任一项定义之步骤或特征,但此时经修改而表示绕射光栅以外的可侦测的保全装置,如偏振图样。图式简单说明:第1图为示意图举例说明涉及根据本发明之包括反射式绕射结构之保全文件之第一具体实范例之制法之各步骤。第2图为示意图举例说明涉及根据本发明之包括反射式绕射结构之保全文件之第二具体实施例之制法之各步骤。第3图为示意图举例说明涉及根据本发明之包括反射式绕射结构之保全文件之第三具体实施例之制法之各步骤。第4图为示意图举例说明涉及根据本发明之包括透射式绕射结构之保全文件之第一具体实施例之制法之各步骤。第5图为示意图举例说明涉及根据本发明之包括透射式绕射结构之保全文件之第二具体实施例之制法之各步骤。第6图为示意图举例说明涉及根据本发明之包括透射式绕射结构之保全文件之第三具体实施例之制法之各步骤。 |
