发明名称 |
处理基板的方法和设备 |
摘要 |
本发明提供一种处理基板的设备和方法,更特别地,为用于执行图案工艺来处理基板的设备和方法。该基板处理设备包括平台,在所述平台上放置基板;排放单元,所述排放单元排放油墨以在放置在所述平台上的所述基板上形成线路;固化单元,所述固化单元固化排放的油墨;和传送单元,所述传送单元移动所述平台或移动所述排放单元及所述固化单元。 |
申请公布号 |
CN103029436B |
申请公布日期 |
2016.12.21 |
申请号 |
CN201210365972.1 |
申请日期 |
2012.09.27 |
申请人 |
细美事有限公司 |
发明人 |
朴铁镐 |
分类号 |
B41J2/01(2006.01)I;B41J3/407(2006.01)I;B41J11/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
B41J2/01(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种基板处理设备,包括:平台,在所述平台上放置基板;排放单元,所述排放单元排放油墨以在放置在所述平台上的所述基板上形成线路;固化单元,所述固化单元固化所述排放的油墨;和传送单元,所述传送单元移动所述平台或移动所述排放单元及所述固化单元;所述基板处理设备还包括供电设备,所述供电设备施加高压到所述排放单元的本体,通过本体所述高压施加到所述排放单元的喷嘴上,其中所述喷嘴提供为微小针形态,并使用电流体动力学方法根据所述高压排放成液柱形状的油墨;所述供电设备施加高压至所述排放单元的本体,所述平台由供电设备充以负电或者接地,本体和平台之间产生根据高压的电场;所述供电设备调节施加到本体的高压以调节液柱的直径。 |
地址 |
韩国忠淸南道天安市西北区稷山邑毛枾里278 |