发明名称 一种准单晶硅锭生长方法
摘要 本发明公开了一种准单晶硅锭生长方法,包括如下步骤:a)在石英坩埚内将多晶硅料加热熔化形成硅熔液;b)对籽晶预热后,将籽晶由上向下移动浸入硅熔液内;c)控制籽晶的旋转速度并缓慢提升籽晶,从籽晶和硅熔液的接触面向下及四周生长形成准单晶锭;d)当准单晶锭的生长比重达到预设阈值时,结束晶体生长,降温至退火温度,冷却出炉。本发明提供的准单晶硅锭生长方法,将籽晶由上向下浸入硅熔液内,通过控制籽晶的旋转和向上提升,使得准单晶锭在生长时与石英坩埚壁之间存在液态硅,有效避免准单晶硅锭与坩埚壁直接接触,从而具有单晶率高,位错率低的优点;且无坩埚接触污染,无需去除边皮层。
申请公布号 CN103966660B 申请公布日期 2017.01.04
申请号 CN201410214862.4 申请日期 2014.05.20
申请人 江苏盎华光伏工程技术研究中心有限公司 发明人 高文秀;李帅;赵百通
分类号 C30B15/00(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I 主分类号 C30B15/00(2006.01)I
代理机构 上海科律专利代理事务所(特殊普通合伙) 31290 代理人 金碎平
主权项 一种准单晶硅锭生长方法,其特征在于,包括如下步骤:a)在石英坩埚内将多晶硅料加热熔化形成硅熔液;b)对籽晶预热后,将籽晶由上向下移动浸入硅熔液内;c)控制籽晶的旋转速度并缓慢提升籽晶,从籽晶和硅熔液的接触面向下及四周生长形成准单晶锭;所述籽晶的旋转速度范围为0.5~2转/分,所述籽晶的提升高度为1~5cm,且生长形成的准单晶锭顶部的高度不高于石英坩埚侧壁的高度;d)当准单晶锭的生长比重达到预设阈值时,结束晶体生长,降温至退火温度,冷却出炉。
地址 214222 江苏省无锡市宜兴经济开放区文庄路8号