| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Oberflächenbearbeitung eines Elements für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist den Schritt auf: Zuführen elektrisch geladener Teilchen (115) von wenigstens einer Materialquelle (110) zu einem Substrat (120, 130), wobei an das Substrat (120) oder an eine auf der der Materialquelle (110) abgewandten Seite des Substrats (130) angeordnete elektrisch leitfähige Elektrode (140) zumindest zeitweise ein elektrisches Potential über eine externe Spannungsquelle angelegt wird. |
