| 发明名称 | 基板载置台和基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种在对基板(G)进行等离子体处理时，在与载置台本体的升降销的插通孔对应的位置不易产生处理不均匀的基板载置台(4)。在等离子体处理中载置基板(G)的基板载置台(4)通过由绝缘部件构成的隔板(7)而配置在处理容器(2)内，使得在基板载置台(4)与处理容器(2)的底壁(2a)之间形成空间(31)，使该空间(31)为大气气氛。 | ||
| 申请公布号 | CN101707186A | 申请公布日期 | 2010.05.12 |
| 申请号 | CN200910253446.4 | 申请日期 | 2007.03.23 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 天野健次;田中善嗣 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/683(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 一种基板载置台，其为在对基板进行等离子体处理的等离子体处理装置的处理容器内载置基板的基板载置台，其特征在于，所述基板载置台通过由绝缘部件构成的隔板而配置在处理容器内，使得在所述基板载置台与所述处理容器的底壁之间形成空间，使所述空间为大气气氛。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||