发明名称 POLYMER FOR PHOTORESIST AND PHOTORESIST COMPOSITION INCLUDING THE SAME
摘要 <p>상기 화학식 1에서, R은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸기이고, R은 탄소수 5 내지 30의 단일환형(mono-cyclic) 또는 다환형(multi-cyclic)의 벌키 포화탄화수소이며, R, R, R는 수소 또는 탄소수 1 내지 6의 선형 또는 환형의 탄화수소이고 R는 탄소수 1 내지 20의 사슬형 또는 고리형 알킬기이다.</p>
申请公布号 KR101207446(B1) 申请公布日期 2012.12.03
申请号 KR20050102805 申请日期 2005.10.31
申请人 发明人
分类号 G03F7/021;G03F7/027;G03F7/039 主分类号 G03F7/021
代理机构 代理人
主权项
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