| 摘要 |
一种用于形成着色层之辐射敏感性组成物，其包含(A)着色剂、(B)硷溶性树脂、(C)多官能性单体以及(D)光聚合作用起始剂，该(B)硷溶性树脂系由共聚物所形成，而该共聚物系由(b1)选自不饱和羧酸、不饱和羧酸酐及不饱和苯酚化合物中之至少一者、(b2)N取代之顺丁烯二醯亚胺、(b3)具有四氢呋喃结构之不饱和化合物以及(b4)异于该(b1)、(b2)和(b3)之不饱和化合物所形成，该辐射敏感性组成物具有高敏感度，且即便于低曝光剂量下其图案形成以及膜剩余比(film remaining ratio)优异，且该组成物可形成对各种溶剂之溶剂抗性优异以及对基材之黏着力优异的像素及黑矩阵。 |
