发明名称 | 记录设备 | ||
摘要 | 本发明提供一种记录设备,包括记录头和传送装置以及第一吸引装置和第二吸引装置,每一个吸引装置均被配置为允许放置在传送表面上的记录介质被吸引到传送表面。第一吸引装置包括第一电极和第二电极以及在该二者之间施加电压的第一电压施加器。第二吸引装置包括放电体和第三电极,记录介质和传送构件中的至少一个被夹在该二者之间;和在放电体和第三电极之间施加电压的第二电压施加器,第二吸引装置使记录介质和传送构件中的至少一个带电。该记录设备还包括探测将被放置在传送表面上的记录介质的电阻的电阻探测器和基于由电阻探测器探测到的记录介质的电阻来控制将由第一电压施加器施加的电压和将由第二电压施加器施加的电压中的至少一个的控制器。 | ||
申请公布号 | CN102555480B | 申请公布日期 | 2015.07.01 |
申请号 | CN201210003069.0 | 申请日期 | 2010.03.29 |
申请人 | 兄弟工业株式会社 | 发明人 | 加藤重己;伊藤孝治;日比学;大泽直胜 |
分类号 | B41J2/045(2006.01)I | 主分类号 | B41J2/045(2006.01)I |
代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 李兰;孙志湧 |
主权项 | 一种记录设备,包括:具有喷射表面的记录头,其中从所述喷射表面喷射液体;和具有带有传送表面的传送构件的传送装置,所述传送表面与所述喷射表面相对并且在所述传送表面上放置记录介质,所述传送装置被配置为通过移动所述传送构件来在传送方向上传送所述记录介质,其中,所述记录设备进一步包括第一吸引装置和第二吸引装置,每一个吸引装置均被配置为允许放置在所述传送表面上的所述记录介质被吸引到所述传送表面,其中,所述第一吸引装置包括:第一电极和第二电极,在所述记录介质被放置在所述传送表面上时,每一个电极均与所述记录介质的一个表面相对,其中所述记录介质的所述一个表面与所述记录介质的面向所述喷射表面的另一表面相反;和第一电压施加器,被配置为在所述第一电极和所述第二电极之间施加电压,并且其中,所述第二吸引装置包括:放电体和第三电极,所述记录介质和所述传送构件中的至少一个被夹在所述放电体和所述第三电极之间;和第二电压施加器,被配置为在所述放电体和所述第三电极之间施加电压,所述第二吸引装置被配置为使所述记录介质和所述传送构件中的至少一个带电,所述记录设备的特征在于进一步包括:电流探测器,所述电流探测器被配置为探测流动通过将被放置在所述传送表面上的所述记录介质的电流值;以及控制器,所述控制器被配置为基于由所述电流探测器探测到的所述电流值来控制将由所述第一电压施加器施加的电压和将由所述第二电压施加器施加的电压,使得当所探测到的电流值低于第一值时所产生的将由所述第一电压施加器施加的电压低于当所探测到的电流值高于比所述第一值高的第二值时所产生的将由所述第一电压施加器施加的电压,并且使得当所探测到的电流值高于所述第二值时所产生的将由所述第二电压施加器施加的电压低于当所探测到的电流值低于所述第一值时所产生的将由所述第二电压施加器施加的电压。 | ||
地址 | 日本爱知县名古屋市 |