| 发明名称 | 一种用于铝的化学机械抛光液及使用方法 | ||
| 摘要 | 本发明揭示了一种用于铝的化学机械抛光。这种抛光液至少含有一种金属离子。金属离子的加入，使本发明的抛光液可以有较高的铝的去除速率。 | ||
| 申请公布号 | CN104745084A | 申请公布日期 | 2015.07.01 |
| 申请号 | CN201310727881.2 | 申请日期 | 2013.12.25 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 荆建芬;张建;蔡鑫元;宋凯;邱腾飞 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C23F3/02(2006.01)I;C23F3/03(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种用于铝的化学机械抛光液，其特征在于，至少含有一种金属离子。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室 | ||