| 发明名称 | 一种用于辐射处理基底的设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于辐射处理基底的设备，其在腔室内在用于装载待处理基底的基底托架上方具有至少一个辐射源，并且所述腔室包括用于维持该腔室内的气流的机构，该腔室具有至少一个气体入口和至少一个气体出口，其特征在于，所述至少一个气体入口如此设置在所述基底托架的区域内，即经由所述至少一个气体入口流入的气体首先环绕流过所述基底托架，随后它直接地和/或在环绕流过至少一个辐射源之后经由所述气体出口又离开所述腔室。 | ||
| 申请公布号 | CN104582923A | 申请公布日期 | 2015.04.29 |
| 申请号 | CN201380044753.6 | 申请日期 | 2013.07.26 |
| 申请人 | 欧瑞康表面处理解决方案股份公司特鲁巴赫 | 发明人 | 卡洛斯·里贝罗 |
| 分类号 | B29C35/08(2006.01)I;B29C71/04(2006.01)I;B29C37/00(2006.01)I | 主分类号 | B29C35/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京富天文博兴知识产权代理事务所(普通合伙) 11272 | 代理人 | 刘寿椿 |
| 主权项 | 一种用于辐射处理基底的设备，其在腔室内在用于装载待处理基底的基底托架上方具有至少一个辐射源，并且所述腔室包括用于维持该腔室内的气流的机构，其具有至少一个气体入口和至少一个气体出口，其特征在于，所述至少一个气体入口如此设置在所述基底托架的区域内，即经由所述至少一个气体入口流入的气体首先环绕流过所述基底托架，随后它直接地和/或在环绕流过至少一个辐射源之后经由所述气体出口又离开所述腔室。 | ||
| 地址 | 瑞士特鲁巴赫市 | ||