发明名称 SUBSTRATE TREATING METHOD AND SUBSTRATE TREATING DEVICE
摘要 기판의 표면에 불산을 공급하여, 상기 표면에 형성되어 있는 자연 산화막을 부식시켜 제거함으로써, 기판의 표면에는 실리콘이 노출된다. 이어서, 기판의 표면에 알코올류의 린스액을 공급하여 상기 표면으로부터 불산을 씻어낸다. 그 후, 기판의 표면에 도펀트를 함유하는 약액인 도펀트액을 공급한다. 수소 종단되어 있지 않은 실리콘이 노출된 기판의 표면에 도펀트액이 접촉함으로써, 상기 표면에 도펀트를 포함하는 단분자층의 박막을 단시간에 형성할 수 있다.
申请公布号 KR20150038413(A) 申请公布日期 2015.04.08
申请号 KR20157005046 申请日期 2013.06.07
申请人 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 发明人 기야마 히로키
分类号 H01L21/02;H01L21/225;H01L21/67 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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