发明名称 真空阀填料密封结构
摘要 本发明属于带有填料函的阀门技术领域,真空阀填料密封结构,包括封闭阀盖填料腔上端口的填料压盖,所述填料压盖的内壁开有密封凹槽,该密封凹槽内安装有O型密封圈;填料腔的底部设置有底垫,填料压盖与底垫之间依次设置有第一衬垫、第一V形填料第二衬垫、隔环、第三衬垫、第二V形填料和第四衬垫,第一V形填料和第二V形填料的V角开口方向相反,隔环处设置填充有密封剂。本发明气密性较好、不限制对填料函装入方式。
申请公布号 CN104329463A 申请公布日期 2015.02.04
申请号 CN201410595550.2 申请日期 2014.10.30
申请人 重庆山能仪表有限公司 发明人 李立光
分类号 F16J15/16(2006.01)I;F16K41/02(2006.01)I 主分类号 F16J15/16(2006.01)I
代理机构 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙) 50217 代理人 黄书凯
主权项 真空阀填料密封结构,包括封闭阀盖填料腔上端口的填料压盖,其特征在于,所述填料压盖的内壁开有密封凹槽,该密封凹槽内安装有O型密封圈;填料腔的底部设置有底垫,填料压盖与底垫之间依次设置有第一衬垫、第一V形填料第二衬垫、隔环、第三衬垫、第二V形填料和第四衬垫,第一V形填料和第二V形填料的V角开口方向相反,隔环处设置填充有密封剂。
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