发明名称 层叠式封装件及其制法
摘要 一种层叠式封装件及其制法,该层叠式封装件包括:第一封装件,其包括:第一封装胶体层;第一电性连接结构,其形成于该第一封装胶体层一侧;多个第一导电柱,其形成于该第一封装胶体层中;及第一半导体芯片,其设于该第一封装胶体层中,且电性连接该第一电性连接结构;以及第二封装件,其堆栈于该第一封装件上,且包括:第二封装胶体层;第二电性连接结构,其形成于该第二封装胶体层上;第二半导体芯片,其设于该第二封装胶体层中,且电性连接该第二电性连接结构;以及多个第二导电柱,其形成于该第二封装胶体层中,该第一导电柱电性连接该第二导电柱。本发明可容许较多的输入输出。
申请公布号 CN104241196A 申请公布日期 2014.12.24
申请号 CN201310262813.3 申请日期 2013.06.27
申请人 矽品精密工业股份有限公司 发明人 王隆源
分类号 H01L21/768(2006.01)I;H01L23/538(2006.01)I 主分类号 H01L21/768(2006.01)I
代理机构 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人 程伟;王锦阳
主权项 一种层叠式封装件的制法,其包括:提供一第一封装件,其包括:第一封装胶体层,其具有相对的第一表面与第二表面;第一电性连接结构,其形成于该第一表面;多个第一导电柱,其形成于该第一封装胶体层中,且其两端分别连接该第一电性连接结构与外露于第二表面;及第一半导体芯片,其设于该第一封装胶体层中,且电性连接该第一电性连接结构;以及于该第一封装件上堆栈第二封装件,该第二封装件包括:第二封装胶体层,其具有相对之第三表面与第四表面;第二电性连接结构,其形成于该第二封装胶体层之第三表面或第四表面上;第二半导体芯片,其设于该第二封装胶体层中,且电性连接该第二电性连接结构;及多个第二导电柱,其形成于该第二封装胶体层中,且电性连接该第二电性连接结构;其中,该第一导电柱电性连接该第二导电柱。
地址 中国台湾台中市