半导体废气之处理设备

摘要

一种半导体废气之处理设备，包含一连接于一半导体加工设备的入口洗涤单元、一与该入口洗涤单元连通的反应单元、一与该反应单元连通的出口洗涤单元，及一水槽单元。该入口洗涤单元用以洗涤该半导体加工设备所排出的废气，该反应单元是对废气进行加热分解处理，该出口洗涤单元是用以洗涤废气并将废气排出。该水槽单元包括一与该入口、出口洗涤单元连通的水槽、一用以排水的排水管，及一设置于该排水管中的排水比例阀，该排水比例阀能在一开启过程中使排水量渐渐增加至一定值，而在一关闭过程中，能使排水量自该定值渐渐降低至零而关闭。

主权项

一种半导体废气之处理设备，适用于配合一半导体加工设备，并包含：一入口洗涤单元，连接于该半导体加工设备，并用以洗涤该半导体加工设备所排出的废气；一反应单元，与该入口洗涤单元连通，并对经由该入口洗涤单元洗涤后的废气进行加热分解处理；一出口洗涤单元，与该反应单元连通，用以洗涤经由该反应单元进行加热分解处理后的废气，并将废气排出；及一水槽单元，包括一与该入口洗涤单元及该出口洗涤单元连通的水槽、一与该水槽连通并用以排水的排水管，及一设置于该排水管中的排水比例阀，该水槽用以盛接该入口洗涤单元及该出口洗涤单元进行洗涤所产生的废液，在排除该水槽所储存之废液时，该排水比例阀是在一开启过程中使排水量呈一定值而排水，并在一关闭过程中，使排水量自该定值渐渐降低至零而关闭。