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发明名称 NEGATIVE-WORKING THICK FILM PHOTORESIST
摘要 <p>Disclosed are compositions for negative-working thick film photophotoresists based on acrylic co-polymers. Also included are methods of using the compositions.</p>
申请公布号 SG11201407048R(A) 申请公布日期 2014.11.27
申请号 SG11201407048R 申请日期 2013.05.13
申请人 AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.À.R.L. 发明人 LU, PINGHUNG;LIU, WEIHONG;TOUKHY, MEDHAT A.;KIM, SANGCHUL;LAI, SOOKME;CHEN, CHUNWEI
分类号 C08F220/18;G03F7/027;G03F7/033;G03F7/038 主分类号 C08F220/18
代理机构 代理人
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